Intel omija problemy z EUV
1 marca 2010, 15:59Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.
Fermentujące błonnik bakterie korzystnie wpływają na zdrowie diabetyków
16 marca 2018, 11:39Błonnik sprzyja bakteriom jelitowym korzystnym dla kontroli poziomu cukru we krwi.
